晶圆后道划片检测装备-Hawkeye-W-F
在半导体晶圆表面上制造芯片的工艺过程极其复杂,涉及多个工艺步骤,易产生各种缺陷,这些缺陷种类繁多、形态各异,尺寸又极小,人工检测缺陷精度差、效率低、标准不统一,给质量监控造成了极大困难。半导体图形晶圆缺陷检测设备,采用显微光学系统对晶圆表面成像,利用图像比对、人工智能算法等实现对各种缺陷的全自动识别与分类检测,可用于半导体生成厂家的大个工艺环节进行产品质量监控,可替代人工完成晶圆中大量缺陷的检测,在一定程度上避免人工检测存在的检测精度差、效率低、标准不统一等问题,此外,还可以提供大量的具有代表性的、可统计分析的缺陷检测数据,用于工艺制程分析,助力工艺改进,以达到最终保证封装产品的良率、降低生成成本的目的。
功能概述:
1) 用于检测: 逻辑型晶圆、存储晶圆、功率晶圆、传感器晶圆、显示晶圆;
2) 检测缺陷: 图形异常、崩边、裂纹(隐裂)异物、针痕、Bumping缺陷。
产品优势:
1)3D检测:具有3D成像功能,可精确测量3D形貌;
2)高效率:可实现35WPH(8英寸,x10)高速检测;
3)检测能力强:覆盖晶圆制造中的各种缺陷,支持分类;
4)本地服务:核心部件支持国产,多地售后团队响应快。
技术参数:
| 项目 | 规格参数 | 
| 晶圆尺寸 | 4、5、6、8、12英寸 | 
检测方式  | 灰度检测/彩色复检  | 
| 可选成像方式 | 明场/暗场/红外/3D  | 
| 物镜可选倍率 | X2、X5、X10、X20、X50 | 
| 最高二维检测精度 | 1um  | 
| 高度检测精度 | 0.2um       | 
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